ASML一直在阐述中国市场的重要性，强调会继续和中国市场保持开放合作。
(资料图)
但是有些事情不是ASML说了算的，美国规则限制ASML 不能自由出货EUV光刻机，这一次荷兰也站在美国一方，阻碍ASML出货先进光刻机设备。有外媒表示：荷兰把ASML事件闹大了。
EUV和DUV光刻机是ASML最核心的两大业务板块，前者只能出货给特定客户，大陆企业无法购买，ASML因此损失了不少订单机会。后者能持续自由出货，不过随着荷兰与美国达成协议之后，情况也不好说了。
根据荷兰表示，计划对半导体技术出口实施新的限制以保护国家安全，加入美国限制出口的行列。
荷兰预计会在夏季实施新规，ASML也在限制范围内。很显然，这又是美国的暗箱操作，西方以“国家安全”为由进行的限制措施屡见不鲜，说是为了“国家安全”，其实是担心其它国家掌握先进技术，然后实现追赶超越。
光刻机作为商品，本该放在商业市场上自由交易，设备买卖由合作双方来决定，不应该上升到更高的层面。
可西方还是这么做了，且没有回头的迹象。ASML作为局内人，自然不可避免受到影响，ASML能做的就是尽力降低影响，维护与客户的合作关系。
于是在荷兰正式站队之后，ASML就发布声明强调并不是所有浸润式光刻机都被限制，只涉及最先进的浸润式光刻系统，即TWINSCAN NXT：2000i及以后的浸润式光刻机。
也就是说，只有比NXT：2000i低端的设备才能出货，比如NXT：1980Di。
这款NXT：1980Di型号设备支持14nm芯片生产，如果能利用多重曝光技术，或许能下探到7nm，但由于精度有限，达不到更先进设备的生产品质。强行量产7nm芯片的话，可能会出现良率过低，成本高，制造难度较大等方面的问题。
保守来看的话，NXT：1980Di适合用于28nm到14nm等成熟芯片量产。尽管ASML能够继续为中企提供较为低端的DUV浸润式光刻机，但难以改变ASML深陷规则的事实。有外媒表示，荷兰把ASML事件闹大了，从两个方面得以验证。
第一个方面：荷兰会给ASML市场运营带来更大变数。
ASML努力调和客户与产业链合作的关系，不希望美国继续实施规则，直言这会导致全球供应链中断。ASML站在自由贸易的角度争取合作机会，维持在中国市场的运营，甚至加大中国团队的招募力度，为的就是能在中国市场站稳脚跟。
荷兰做出了自己的选择，无疑会给ASML市场运营带来更大的变数，出货范围的缩小会影响ASML未来的销售利润，损失潜在的客户订单。
中国大陆是ASML第三大市场，2021年出货量占ASML全球出货总量的16%，到了2022年，ASML对中国大陆的出货量下滑到了全球占比的14%。
如果持续下滑，ASML在中国大陆是怎样的运营状况就不好说了。
第二个方面：限制会让中国加速自研光刻机。
光刻机是非常复杂的半导体设备，负责将芯片图案曝光在晶圆表面。最高端的EUV光刻机波长为13.5nm，是生产7nm，5nm高端芯片的必要设备。内含10万个零部件，涉及5000多家供应商，是人类几十年来智慧的结晶。
虽然靠一个国家地区单独生产EUV光刻机难度很大，几乎是不可能的，但ASML还是担心限制会让中国加速自研光刻机。
也许短期内达不到EUV光刻机的水准，但DUV光刻机却是大有可为。DUV光刻机包含三种制程类别，分别为KrF、ArF、ArFi，最高端的是ArFi，这也是ASML目前被限制的主要范围，在ArFi之中的NXT：1980Di浸润式光刻机才能够被自由出货。
上海微电子是唯一的芯片制造光刻机厂商，拥有设计，集成制造光刻机的能力。量产的光刻机能够实现90nm芯片制造，更先进的制程还在研发当中。
如果上海微电子掌握193nm光波长ArF浸润式光刻机核心技术，有望实现阶级式的跨越。
荷兰把ASML事件闹大了，ASML在大陆市场的运营将出现更多的变数，客户或许会重新调整光刻机产业链合作，以及促使中国加快自研光刻机，用国产替代进口。
当然，在能够合作的范围内，依然可以保持合作。与此同时，自研项目不能落下，做到两手抓。双管齐下，才能带来更大的破局希望。
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